Penentuan profil konsentrasi ion dopan pada lapisan semikonduktor silikon diimplantasi dengan ion fosfor tenaga 30 KeV dan 60 KeV
| Main Authors: | , |
|---|---|
| Format: | Thesis |
| Published: |
[Yogyakarta] : Universitas Gadjah Mada
1996
|
| Subjects: |