Annealing effects on the microstructure of Ge/Si(001) quantum dots
Ge/Si(001) multilayer islands produced by gas-source molecular-beam epitaxy at 575 °C were investigated using energy-filtering transmission electron microscopy. Results show, for as-grown samples, not only a continuous enlargement of island size in upper layers but also a continuous increase of Ge c...
প্রধান লেখক: | Liao, X, Zou, J, Cockayne, D, Wan, J, Jiang, Z, Jin, G, Wang, K |
---|---|
বিন্যাস: | Journal article |
ভাষা: | English |
প্রকাশিত: |
2001
|
অনুরূপ উপাদানগুলি
অনুরূপ উপাদানগুলি
-
Alloying, elemental enrichment, and interdiffusion during the growth of Ge(Si)/Si(001) quantum dots
অনুযায়ী: Liao, X, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2002) -
Nonuniform alloying in Ge(Si)/Si(001) quantum dots
অনুযায়ী: Lang, C, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2003) -
The non-uniform composition profile in Ge(Si)/Si(001) quantum dots
অনুযায়ী: Lang, C, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2004) -
[001] zone-axis bright-field diffraction contrast from coherent Ge(Si) islands on Si(001).
অনুযায়ী: Liao, X, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2004) -
Extracting composition and alloying information of coherent Ge(Si)/Si(001) islands from [001] on-zone bright-field diffraction contrast images
অনুযায়ী: Liao, X, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2001)