Nanotribology of clean and oxide-covered silicon surfaces using atomic force microscopy
Atomic force microscopy (AFM) has been used for tribological studies of silicon surfaces both with and without an oxide layer on the surface. Three different types of surfaces were prepared: a silicon surface with a chemical oxide made by the SC1 process, a silicon surface with a thermal oxide, and...
প্রধান লেখক: | Moon, W, Contera, SA, Yoshinobu, T, Iwasaki, H |
---|---|
বিন্যাস: | Journal article |
ভাষা: | English |
প্রকাশিত: |
JJAP
2000
|
অনুরূপ উপাদানগুলি
অনুরূপ উপাদানগুলি
-
Mesoscopic scanning tunneling and atomic force microscopy study of the misfit-layer compounds (LaSe)(x)NbSe2 and (PbSe)(x)NbSe2
অনুযায়ী: Contera, SA, অন্যান্য
প্রকাশিত: (1999) -
Nanomechanical and Nanotribological Properties of Silicon Oxide Thin Films on Polymeric Membranes
অনুযায়ী: Charitidis, C.A., অন্যান্য
প্রকাশিত: (2007-06-01) -
Nanotribology
অনুযায়ী: Enrico Gnecco, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2018-08-01) -
Nanotribology
অনুযায়ী: Enrico Gnecco, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2002-10-01) -
The use of atomic force microscopy to assess the quality of cleaning and tribometric properties of a silicon wafer surface
অনুযায়ী: Igor Mikheev, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2019-06-01)