Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon studied by secondary electron imaging

Մատենագիտական մանրամասներ
Հիմնական հեղինակներ: Castell, M, Simpson, T, Mitchell, I, Perovic, D, Baribeau, J
Ձևաչափ: Journal article
Հրապարակվել է: 1999