Hoppa till innehåll
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Språk
Alla fält
Titel
Upphovsman
Ämne
Signum
ISBN/ISSN
Tagg
Sök
Avancerad
TiSix as a new embedded materi...
Hänvisa
Textmeddelande
Skicka per e-post
Skriv ut
Exportera posten
Exportera till: RefWorks
Exportera till: EndNoteWeb
Exportera till: EndNote
Permanent länk
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Bibliografiska uppgifter
Huvudupphovsmän:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Materialtyp:
Conference item
Publicerad:
1996
Beståndsuppgifter
Beskrivning
Liknande verk
Katalogiseringsuppgifter
Beskrivning
Sammanfattning:
Liknande verk
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
av: M. Grégoire, et al.
Publicerad: (2019-03-01)
The new method of fabrication of submicron structures by optical lithography with mask shifting and mask rotation
av: Indykiewicz Kornelia, et al.
Publicerad: (2013-02-01)
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
av: Koo, Chee Kiong.
Publicerad: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
av: Choo, Lay Cheng.
Publicerad: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
av: Dimitris Ampeliotis, et al.
Publicerad: (2021-10-01)