تخطي إلى المحتوى
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
اللغة
كل الحقول
العنوان
المؤلف
الموضوع
رقم الاستدعاء
ردمك/تدمد
الوسم
ابحث
بحث متقدم
TiSix as a new embedded materi...
استشهد بهذا
أرسل هذا في رسالة قصيرة
أرسل هذا بالبريد الإلكتروني
طباعة
تصدير التسجيلة
تصدير إلى RefWorks
تصدير إلى EndNoteWeb
تصدير إلى EndNote
رابط دائم
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
التنسيق:
Conference item
منشور في:
1996
المقتنيات
الوصف
مواد مشابهة
عرض للأخصائي
مواد مشابهة
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
حسب: Koo, Chee Kiong.
منشور في: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
حسب: Choo, Lay Cheng.
منشور في: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
حسب: Dimitris Ampeliotis, وآخرون
منشور في: (2021-10-01)
Phase shift, amplification, oscillation and attenuation of solitons in nonlinear optics
حسب: Weitian Yu, وآخرون
منشور في: (2019-01-01)
Acoustic Attenuation of COVID-19 Face Masks: Correlation to Fibrous Material Porosity, Mask Breathability and Bacterial Filtration Efficiency
حسب: Milena Martarelli, وآخرون
منشور في: (2022-02-01)