Přeskočit na obsah
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Jazyk
Vše
Název
Autor
Téma
Signatura
ISBN/ISSN
Tag
Hledat
Pokročilé
TiSix as a new embedded materi...
Vytvořit citaci
Zaslat SMS
Poslat e-mailem
Vytisknout
Exportovat záznam
Exportovat do RefWorks
Exportovat do EndNoteWeb
Exportovat do EndNote
Trvalý odkaz
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Podrobná bibliografie
Hlavní autoři:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Médium:
Conference item
Vydáno:
1996
Jednotky
Popis
Podobné jednotky
UNIMARC/MARC
Podobné jednotky
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
Autor: Koo, Chee Kiong.
Vydáno: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
Autor: Choo, Lay Cheng.
Vydáno: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
Autor: Dimitris Ampeliotis, a další
Vydáno: (2021-10-01)
Phase shift, amplification, oscillation and attenuation of solitons in nonlinear optics
Autor: Weitian Yu, a další
Vydáno: (2019-01-01)
Acoustic Attenuation of COVID-19 Face Masks: Correlation to Fibrous Material Porosity, Mask Breathability and Bacterial Filtration Efficiency
Autor: Milena Martarelli, a další
Vydáno: (2022-02-01)