Μετάβαση στο περιεχόμενο
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Γλώσσα
Όλα τα πεδία
Τίτλος
Συγγραφέας
Θέμα
Ταξιθετικός Αριθμός
ISBN/ISSN
Ετικέτα
Αναζήτηση
Σύνθετη
TiSix as a new embedded materi...
Εμφάνιση παραπομπής
Αποστολή με SMS
Αποστολή με email
Εκτύπωση
Αποθήκευση
Αποθήκευση σε RefWorks
Αποθήκευση σε EndNoteWeb
Αποθήκευση σε EndNote
Μόνιμος σύνδεσμος
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Κύριοι συγγραφείς:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Μορφή:
Conference item
Έκδοση:
1996
Τεκμήρια
Περιγραφή
Παρόμοια τεκμήρια
Λεπτομερής προβολή
Παρόμοια τεκμήρια
Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
ανά: M. Grégoire, κ.ά.
Έκδοση: (2019-03-01)
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
ανά: Koo, Chee Kiong.
Έκδοση: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
ανά: Choo, Lay Cheng.
Έκδοση: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
ανά: Dimitris Ampeliotis, κ.ά.
Έκδοση: (2021-10-01)
Phase shift, amplification, oscillation and attenuation of solitons in nonlinear optics
ανά: Weitian Yu, κ.ά.
Έκδοση: (2019-01-01)