Skip to content
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
שפה
כל השדות
כותר
מחבר
נושא
סימן המיקום
ISBN/ISSN
תג
מצא
מתקדם
TiSix as a new embedded materi...
יצירת מראה מקום
שליחה במסרון
שלח את זה
הדפסה
יצוא רשומה
יצוא אל RefWorks
יצוא אל EndNoteWeb
יצוא אל EndNote
Permanent link
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
מידע ביבליוגרפי
Main Authors:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
פורמט:
Conference item
יצא לאור:
1996
מלאי ספרים
תיאור
פריטים דומים
תצוגת צוות
פריטים דומים
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
מאת: Koo, Chee Kiong.
יצא לאור: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
מאת: Choo, Lay Cheng.
יצא לאור: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
מאת: Dimitris Ampeliotis, et al.
יצא לאור: (2021-10-01)
Phase shift, amplification, oscillation and attenuation of solitons in nonlinear optics
מאת: Weitian Yu, et al.
יצא לאור: (2019-01-01)
Acoustic Attenuation of COVID-19 Face Masks: Correlation to Fibrous Material Porosity, Mask Breathability and Bacterial Filtration Efficiency
מאת: Milena Martarelli, et al.
יצא לאור: (2022-02-01)