Пропуск в контексте
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Язык
Все поля
Заглавие
Автор
Предмет
Шифр
ISBN/ISSN
Метка
Найти
Расширенный поиск
TiSix as a new embedded materi...
Цитировать
Отправить по sms
Отправить на Email
Печать
Запись для экспорта
Экспорт в RefWorks
Экспорт в EndNoteWeb
Экспорт в EndNote
Постоянная ссылка
TiSix as a new embedded material for attenuated phase shift mask
Библиографические подробности
Главные авторы:
Loong, W
,
Chen, T
,
Shy, S
,
Tseng, J
,
Lin, R
Формат:
Conference item
Опубликовано:
1996
Фонды
Описание
Схожие документы
Marc-запись
Схожие документы
Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography
по: Koo, Chee Kiong.
Опубликовано: (2008)
Application of phase shift masking to sub-micron contact level lithography
по: Choo, Lay Cheng.
Опубликовано: (2008)
Proximal Algorithms for Discrete-Level Phase-Shifting Mask Design with Application to Optogenetics
по: Dimitris Ampeliotis, и др.
Опубликовано: (2021-10-01)
Phase shift, amplification, oscillation and attenuation of solitons in nonlinear optics
по: Weitian Yu, и др.
Опубликовано: (2019-01-01)
Acoustic Attenuation of COVID-19 Face Masks: Correlation to Fibrous Material Porosity, Mask Breathability and Bacterial Filtration Efficiency
по: Milena Martarelli, и др.
Опубликовано: (2022-02-01)