The effect of mismatch strain on Stranski-Krastanow transition in epitaxial GexSi1-xSi(0 0 1) gas-source growth
المؤلفون الرئيسيون: | Goldfarb, I, Briggs, G |
---|---|
التنسيق: | Conference item |
منشور في: |
1999
|
مواد مشابهة
-
Reduction of dislocation mobility in GexSi1-x epilayers
حسب: Jurkschat, K, وآخرون
منشور في: (1996) -
The effect of ion-implantation induced defects on strain relaxation in GexSi1-x/Si heterostructures
حسب: Glasko, J, وآخرون
منشور في: (1997) -
A mechanism for "double half dislocation loops" nucleation in low misfit epitaxial GeXSi1-X on Si
حسب: Hirsch, P
منشور في: (1997) -
The effect of irradiation temperature on post-irradiation strain levels in GexSi1-x/Si strained layer heterostructures
حسب: Glasko, J, وآخرون
منشور في: (1996) -
Ultra-steep side facets in multi-faceted SiGe/Si(001) Stranski-Krastanow islands
حسب: Brehm Moritz, وآخرون
منشور في: (2011-01-01)