The effect of mismatch strain on Stranski-Krastanow transition in epitaxial GexSi1-xSi(0 0 1) gas-source growth
Asıl Yazarlar: | Goldfarb, I, Briggs, G |
---|---|
Materyal Türü: | Conference item |
Baskı/Yayın Bilgisi: |
1999
|
Benzer Materyaller
-
Reduction of dislocation mobility in GexSi1-x epilayers
Yazar:: Jurkschat, K, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1996) -
The effect of ion-implantation induced defects on strain relaxation in GexSi1-x/Si heterostructures
Yazar:: Glasko, J, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1997) -
A mechanism for "double half dislocation loops" nucleation in low misfit epitaxial GeXSi1-X on Si
Yazar:: Hirsch, P
Baskı/Yayın Bilgisi: (1997) -
The effect of irradiation temperature on post-irradiation strain levels in GexSi1-x/Si strained layer heterostructures
Yazar:: Glasko, J, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1996) -
Ultra-steep side facets in multi-faceted SiGe/Si(001) Stranski-Krastanow islands
Yazar:: Brehm Moritz, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (2011-01-01)