Siirry sisältöön
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Kieli
Kaikki kentät
Nimeke
Tekijä
Aihe
Hyllypaikka
ISBN/ISSN
Tagi
Hae
Tarkennettu
SEMICONDUCTOR SURFACE ETCHING...
Sitaatti
Tekstiviesti
Lähetä sähköpostilla
Tulosta
Vie tietue
Vienti: RefWorks
Vienti: EndNoteWeb
Vienti: EndNote
Pysyvä linkki
SEMICONDUCTOR SURFACE ETCHING BY HALOGENS - FUNDAMENTAL STEPS
Näytä muut versiot (1)
Bibliografiset tiedot
Päätekijät:
Jackman, R
,
Price, R
,
Foord, J
Aineistotyyppi:
Journal article
Julkaistu:
1989
Saatavuustiedot
Kuvaus
Muut versiot (1)
Samankaltaisia teoksia
Henkilökuntanäyttö
Näytetään
1 - 1
yhteensä
1
tuloksesta
Näytä kaikki versiot (2)
Search Result 1
Semiconductor surface etching by halogens: Fundamental steps
Tekijä
Jackman, R
,
Price, R
,
Foord, J
Julkaistu 1989
Journal article
Näytä kaikki versiot (2)
Samankaltaisia teoksia
Semiconductor surface etching by halogens: Fundamental steps
Tekijä: Jackman, R, et al.
Julkaistu: (1989)
REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)
Tekijä: Jackman, R, et al.
Julkaistu: (1986)
THERMAL AND ION-BEAM-INDUCED ETCHING OF INP WITH CHLORINE
Tekijä: Murrell, A, et al.
Julkaistu: (1989)
Thermal and ion-beam-induced etching of InP with chlorine
Tekijä: Murrell, A, et al.
Julkaistu: (1989)
HALOGEN ADSORPTION AND HALOGEN-INDUCED SURFACE PHASE-TRANSITIONS ON CR(110)
Tekijä: Foord, J, et al.
Julkaistu: (1987)