Skip to content
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Sprog
Alle Felter
Titel
Forfatter
Fag
Klassifikationsnummer
ISBN/ISSN
Tag
Find
Udvidet
SEMICONDUCTOR SURFACE ETCHING...
Citér dette
Stav dette
Email dette
Udskriv
Eksportér post
Eksportér til RefWorks
Eksportér til EndNoteWeb
Eksportér til EndNote
Permanent link
SEMICONDUCTOR SURFACE ETCHING BY HALOGENS - FUNDAMENTAL STEPS
Show other versions (1)
Bibliografiske detaljer
Main Authors:
Jackman, R
,
Price, R
,
Foord, J
Format:
Journal article
Udgivet:
1989
Beholdninger
Beskrivelse
Other Versions (1)
Lignende værker
Medarbejdervisning
Lignende værker
Semiconductor surface etching by halogens: Fundamental steps
af: Jackman, R, et al.
Udgivet: (1989)
REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)
af: Jackman, R, et al.
Udgivet: (1986)
THERMAL AND ION-BEAM-INDUCED ETCHING OF INP WITH CHLORINE
af: Murrell, A, et al.
Udgivet: (1989)
Thermal and ion-beam-induced etching of InP with chlorine
af: Murrell, A, et al.
Udgivet: (1989)
HALOGEN ADSORPTION AND HALOGEN-INDUCED SURFACE PHASE-TRANSITIONS ON CR(110)
af: Foord, J, et al.
Udgivet: (1987)