Skip to content
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
שפה
כל השדות
כותר
מחבר
נושא
סימן המיקום
ISBN/ISSN
תג
מצא
מתקדם
SEMICONDUCTOR SURFACE ETCHING...
יצירת מראה מקום
שליחה במסרון
שלח את זה
הדפסה
יצוא רשומה
יצוא אל RefWorks
יצוא אל EndNoteWeb
יצוא אל EndNote
Permanent link
SEMICONDUCTOR SURFACE ETCHING BY HALOGENS - FUNDAMENTAL STEPS
Show other versions (1)
מידע ביבליוגרפי
Main Authors:
Jackman, R
,
Price, R
,
Foord, J
פורמט:
Journal article
יצא לאור:
1989
מלאי ספרים
תיאור
Other Versions (1)
פריטים דומים
תצוגת צוות
פריטים דומים
Semiconductor surface etching by halogens: Fundamental steps
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1989)
REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1986)
THERMAL AND ION-BEAM-INDUCED ETCHING OF INP WITH CHLORINE
מאת: Murrell, A, et al.
יצא לאור: (1989)
Thermal and ion-beam-induced etching of InP with chlorine
מאת: Murrell, A, et al.
יצא לאור: (1989)
HALOGEN ADSORPTION AND HALOGEN-INDUCED SURFACE PHASE-TRANSITIONS ON CR(110)
מאת: Foord, J, et al.
יצא לאור: (1987)