Jackman, R., Ebert, H., & Foord, J. (1986). REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100).
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Jackman, R., H. Ebert, و J. Foord. REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100). 1986.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الإصدار التاسع)Jackman, R., et al. REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100). 1986.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.