Jackman, R., Ebert, H., & Foord, J. (1986). REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100).
শিকাগো স্টাইল (17 তম সংস্করণ) উদ্ধৃতিJackman, R., H. Ebert, এবং J. Foord. REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100). 1986.
M.L.A (9 ম সংস্করণ) উদ্ধৃতিJackman, R., et al. REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100). 1986.
সতর্কবাণী: সাইটেশন সবসময় 100% নির্ভুল হতে পারে না.