Jackman, R., Ebert, H., & Foord, J. (1986). REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100).
Trích dẫn kiểu Chicago (xuất bản lần thứ 7)Jackman, R., H. Ebert, và J. Foord. REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100). 1986.
Trích dẫn kiểu MLA (xuất bản lần thứ 9)Jackman, R., et al. REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100). 1986.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.