Перейти до змісту
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Мова
Всі поля
Назва
Автор
Предмет
Шифр
ISBN/ISSN
Тег
Знайти
Розширений
Residual stress measurement in...
Цитувати
Відправити по sms
Відправити е-поштою
Друк
Експортувати запис
Екпортувати в RefWorks
Екпортувати в EndNoteWeb
Екпортувати в EndNote
Постійне посилання
Residual stress measurement in thin films at sub-micron scale using Focused Ion Beam milling and imaging
Показати інші версії (1)
Бібліографічні деталі
Автори:
Song, X
,
Yeap, K
,
Zhu, J
,
Belnoue, J
,
Sebastiani, M
,
Bemporad, E
,
Zeng, K
,
Korsunsky, A
Формат:
Journal article
Опубліковано:
2012
Примірники
Опис
Інші версії (1)
Схожі ресурси
Службовий вигляд
Схожі ресурси
Residual stress measurement in thin films at sub-micron scale using Focused Ion Beam milling and imaging
за авторством: Song, X, та інші
Опубліковано: (2012)
Residual stress measurement in thin films using the semi-destructive ring-core drilling method using Focused Ion Beam
за авторством: Song, X, та інші
Опубліковано: (2011)
Focused ion beam four-slot milling for Poisson's ratio and residual stress evaluation at the micron scale
за авторством: Sebastiani, M, та інші
Опубліковано: (2014)
Focused ion beam four-slot milling for Poisson's ratio and residual stress evaluation at the micron scale
за авторством: Sebastiani, M, та інші
Опубліковано: (2014)
Focused ion beam ring drilling for residual stress evaluation
за авторством: Korsunsky, A, та інші
Опубліковано: (2009)