GRAIN-BOUNDARY SOLUTE INTERACTIONS IN POLYCRYSTALLINE SILICON AND GERMANIUM
The behavior of semiconductors is affected by the presence and distribution of dopants. The properties involved range from electrical resistivity and carrier concentration to grain boundary mobility and self-diffusion. Understanding these phenomena necessitates the characterization of defect structu...
Автори: | Smith, D, Grovenor, C, Batson, P, Wong, C |
---|---|
Формат: | Journal article |
Мова: | English |
Опубліковано: |
1984
|
Схожі ресурси
Схожі ресурси
-
EFFECT OF ARSENIC SEGREGATION ON THE ELECTRICAL-PROPERTIES OF GRAIN-BOUNDARIES IN POLYCRYSTALLINE SILICON
за авторством: Wong, C, та інші
Опубліковано: (1985) -
ARSENIC SEGREGATION IN POLYCRYSTALLINE SILICON
за авторством: Wong, C, та інші
Опубліковано: (1983) -
SEGREGATION TO GRAIN BOUNDARIES IN Si.
за авторством: Grovenor, C, та інші
Опубліковано: (1984) -
AS SEGREGATION TO GRAIN-BOUNDARIES IN SI
за авторством: Grovenor, C, та інші
Опубліковано: (1984) -
METAL INDUCED GRAIN GROWTH IN GERMANIUM AND SILICON THIN FILMS.
за авторством: Grovenor, C, та інші
Опубліковано: (1984)