Preskoči na sadržaj
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Jezik
Sva polja
Naslov
Autor
Tema
Signatura
ISBN/ISSN
Oznaka
Pronađi
Napredno
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMI...
Citiraj ovo
Pošalji tekstualnu poruku
Pošalji ovo e-mailom
Ispiši
Izvezi zapis
Izvezi u RefWorks
Izvezi u EndNoteWeb
Izvezi u EndNote
Stalna poveznica
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)
Bibliografski detalji
Glavni autori:
Jackman, R
,
Foord, J
Format:
Journal article
Izdano:
1986
Primjerci
Opis
Slični predmeti
Prikaz za djelatnike knjižnice
Slični predmeti
THERMAL AND PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF FE FROM FE(CO)5 ON SI(100)
od: Jackman, R, i dr.
Izdano: (1989)
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON SILICON - INSITU SURFACE STUDIES
od: Foord, J, i dr.
Izdano: (1984)
LASER CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED FE ON SILICA GLASS - OBSERVATION AND ORIGINS OF PERIODIC RIPPLE STRUCTURES
od: Jackman, R, i dr.
Izdano: (1986)
Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides : for VLSI/ULSI applications
od: 439284 Schmitz, John E. J.
Izdano: (1992)
DIAMOND CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION FROM A CAPACITIVELY COUPLED RADIO-FREQUENCY PLASMA
od: Jackman, R, i dr.
Izdano: (1995)