Přeskočit na obsah
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Jazyk
Vše
Název
Autor
Téma
Signatura
ISBN/ISSN
Tag
Hledat
Pokročilé
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMI...
Vytvořit citaci
Zaslat SMS
Poslat e-mailem
Vytisknout
Exportovat záznam
Exportovat do RefWorks
Exportovat do EndNoteWeb
Exportovat do EndNote
Trvalý odkaz
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)
Podrobná bibliografie
Hlavní autoři:
Jackman, R
,
Foord, J
Médium:
Journal article
Vydáno:
1986
Jednotky
Popis
Podobné jednotky
UNIMARC/MARC
Podobné jednotky
THERMAL AND PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF FE FROM FE(CO)5 ON SI(100)
Autor: Jackman, R, a další
Vydáno: (1989)
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON SILICON - INSITU SURFACE STUDIES
Autor: Foord, J, a další
Vydáno: (1984)
LASER CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED FE ON SILICA GLASS - OBSERVATION AND ORIGINS OF PERIODIC RIPPLE STRUCTURES
Autor: Jackman, R, a další
Vydáno: (1986)
Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides : for VLSI/ULSI applications
Autor: 439284 Schmitz, John E. J.
Vydáno: (1992)
DIAMOND CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION FROM A CAPACITIVELY COUPLED RADIO-FREQUENCY PLASMA
Autor: Jackman, R, a další
Vydáno: (1995)