ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)

ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)

Бібліографічні деталі
Автори:	Jackman, R, Foord, J
Формат:	Journal article
Опубліковано:	1986

Схожі ресурси

THERMAL AND PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF FE FROM FE(CO)5 ON SI(100)
за авторством: Jackman, R, та інші
Опубліковано: (1989)

CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON SILICON - INSITU SURFACE STUDIES
за авторством: Foord, J, та інші
Опубліковано: (1984)

LASER CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED FE ON SILICA GLASS - OBSERVATION AND ORIGINS OF PERIODIC RIPPLE STRUCTURES
за авторством: Jackman, R, та інші
Опубліковано: (1986)

Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides : for VLSI/ULSI applications
за авторством: 439284 Schmitz, John E. J.
Опубліковано: (1992)

DIAMOND CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION FROM A CAPACITIVELY COUPLED RADIO-FREQUENCY PLASMA
за авторством: Jackman, R, та інші
Опубліковано: (1995)

STUDIES OF ADSORPTION AND ELECTRON-INDUCED DISSOCIATION OF FE(CO)5 ON SI(100)
за авторством: Foord, J, та інші
Опубліковано: (1986)

Surface spectroscopic and molecular beam studies of the reactions of trimethylaluminium on Si(100)
за авторством: Wee, A, та інші
Опубліковано: (1989)

SURFACE SPECTROSCOPIC AND MOLECULAR-BEAM STUDIES OF THE REACTIONS OF TRIMETHYLALUMINUM ON SI(100)
за авторством: Wee, A, та інші
Опубліковано: (1989)

CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION OF DIAMOND FROM A NOVEL CAPACITIVELY COUPLED RF PLASMA SOURCE
за авторством: Jackman, R, та інші
Опубліковано: (1995)

Influence of the environment on the surface conductivity of chemical vapor deposition diamond
за авторством: Foord, J, та інші
Опубліковано: (2002)

DEVELOPMENT OF CHEMICAL BEAM EPITAXY FOR THE DEPOSITION OF GALLIUM NITRIDE
за авторством: Kingsley, C, та інші
Опубліковано: (1995)

REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)
за авторством: Jackman, R, та інші
Опубліковано: (1986)

INTERACTION OF HYDROGEN WITH CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION DIAMOND SURFACES - A THERMAL-DESORPTION STUDY
за авторством: Chua, L, та інші
Опубліковано: (1994)

THE INTERACTION OF AZOMETHANE WITH SI(100)
за авторством: Loh, K, та інші
Опубліковано: (1995)

Deposition polycrystalline diamond on silicon nitride and tungsten carbide by using hot filament chemical vapor deposition [electronic resource] /
за авторством: Chee, Kevin Mun Fai, 1985-
Опубліковано: (2009)

Hydrogen addition for centimeter-sized monolayer tungsten disulfide continuous films by ambient pressure chemical vapor deposition
за авторством: Sheng, Y, та інші
Опубліковано: (2017)

THE INTERACTION OF WF6 WITH SI(100) - THERMAL AND PHOTON INDUCED REACTIONS
за авторством: Jackman, R, та інші
Опубліковано: (1988)

ALUMINUM FILM GROWTH BY CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF AIH3(NME3)2
за авторством: Wee, A, та інші
Опубліковано: (1990)

Particle characterization for an eight inch wafer tungsten chemical vapor deposition system
за авторством: Morrison, Troy
Опубліковано: (2005)

CHEMICAL PRECURSORS FOR GAAS ETCHING WITH LOW-ENERGY ION-BEAMS - CHLORINE ADSORPTION ON GAAS(100)
за авторством: Jackman, R, та інші
Опубліковано: (1991)

THE INTERACTION OF ATOMIC-HYDROGEN WITH ADSORBED ETHYLENE AND ACETYLENE ON SI(100)
за авторством: Chua, L, та інші
Опубліковано: (1994)

Chemical vapor deposition synthesis of graphene films
за авторством: Fangzhu Qing, та інші
Опубліковано: (2019-02-01)

Deposition polycrystalline diamond on silicon nitride and tungsten carbide by using hot filament chemical vapor deposition /
за авторством: Chee, Kevin Mun Fai, 1985-, та інші
Опубліковано: (2009)

Characterization of polyerystalline diamond coated on tungsten carbide deposited by microwave plasma assisted chemical vapor deposition /
за авторством: Esah Hamzah, author, та інші
Опубліковано: (2007)

SURFACE SPECTROSCOPIC STUDIES OF THE INITIAL-STAGES OF DIAMOND GROWTH ON SI(100)
за авторством: Jackman, R, та інші
Опубліковано: (1993)

Surface blistering and deuterium retention in chemical vapor deposition tungsten exposed to deuterium plasma
за авторством: Hao Yin, та інші
Опубліковано: (2023-12-01)

Tungsten Oxide Nanorods Array and Nanobundle Prepared by Using Chemical Vapor Deposition Technique
за авторством: Wang XP, та інші
Опубліковано: (2007-01-01)

Chemical vapor deposition thin films as biopassivation coatings and directly patternable dielectrics
за авторством: Pryce Lewis, Hilton G. (Hilton Gavin), 1973-
Опубліковано: (2005)

Chemical vapor deposition of conjugated polymeric thin films for photonic and electronic applications
за авторством: Lock, John P
Опубліковано: (2006)

Environmentally focused patterning and processing of polymer thin films by initiated chemical vapor deposition (iCVD) and oxidative chemical vapor deposition (oCVD)
за авторством: Trujillo, Nathan J. (Nathan Jeffrey)
Опубліковано: (2011)

Low temperature physical-chemical vapor deposition of Ti-Si-N-O barrier films
за авторством: Lu, T. M., та інші
Опубліковано: (2012)

Investigation of SiC and C nanostructures synthesized by the method of chemical vapor deposition on Ni films
за авторством: A.K. Kenzhegulov, та інші
Опубліковано: (2018-06-01)

Elastic properties of 2D ultrathin tungsten nitride crystals grown by chemical vapor deposition
за авторством: Wang, Hong, та інші
Опубліковано: (2020)

Large-Size and Ultrahigh Purity Tungsten with Enhanced Physical Properties via Chemical Vapor Deposition
за авторством: Lipei Peng, та інші
Опубліковано: (2024-10-01)

ADSORPTION, ETCHING AND PHOTOINDUCED REACTIONS AT THE SI(100)-CCL4 INTERFACE
за авторством: French, C, та інші
Опубліковано: (1989)

Low temperature deposition of hydrogenated nanocrystalline SiC films by helicon wave plasma enhanced chemical vapor deposition/
за авторством: 496878 Yu, Wei, та інші

Chemically vapor deposited Si nanowires nucleated by self-assembled Ti islands on patterned and unpatterned Si substrates
за авторством: Kamins, T, та інші
Опубліковано: (2002)

Deposition of Nano Tungsten Oxide on Glass Mat Using Hot Filament Chemical Vapor Deposition for High Catalytic Activity
за авторством: Shahidi Sheila, та інші
Опубліковано: (2016-05-01)

Low energy Si+, SiCH5+, or C+ beam injections to silicon substrates during chemical vapor deposition with dimethylsilane
за авторством: Satoru Yoshimura, та інші
Опубліковано: (2023-08-01)

Electrochromism in tungsten oxide thin films prepared by chemical bath deposition
за авторством: Julijana Velevska, та інші
Опубліковано: (2017-03-01)