ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)
Hlavní autoři: | Jackman, R, Foord, J |
---|---|
Médium: | Journal article |
Vydáno: |
1986
|
Podobné jednotky
-
THERMAL AND PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF FE FROM FE(CO)5 ON SI(100)
Autor: Jackman, R, a další
Vydáno: (1989) -
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON SILICON - INSITU SURFACE STUDIES
Autor: Foord, J, a další
Vydáno: (1984) -
LASER CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED FE ON SILICA GLASS - OBSERVATION AND ORIGINS OF PERIODIC RIPPLE STRUCTURES
Autor: Jackman, R, a další
Vydáno: (1986) -
Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides : for VLSI/ULSI applications
Autor: 439284 Schmitz, John E. J.
Vydáno: (1992) -
DIAMOND CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION FROM A CAPACITIVELY COUPLED RADIO-FREQUENCY PLASMA
Autor: Jackman, R, a další
Vydáno: (1995)