Пропуск в контексте
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Язык
Все поля
Заглавие
Автор
Предмет
Шифр
ISBN/ISSN
Метка
Найти
Расширенный поиск
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMI...
Цитировать
Отправить по sms
Отправить на Email
Печать
Запись для экспорта
Экспорт в RefWorks
Экспорт в EndNoteWeb
Экспорт в EndNote
Постоянная ссылка
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)
Библиографические подробности
Главные авторы:
Jackman, R
,
Foord, J
Формат:
Journal article
Опубликовано:
1986
Фонды
Описание
Схожие документы
Marc-запись
Схожие документы
THERMAL AND PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF FE FROM FE(CO)5 ON SI(100)
по: Jackman, R, и др.
Опубликовано: (1989)
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON SILICON - INSITU SURFACE STUDIES
по: Foord, J, и др.
Опубликовано: (1984)
LASER CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED FE ON SILICA GLASS - OBSERVATION AND ORIGINS OF PERIODIC RIPPLE STRUCTURES
по: Jackman, R, и др.
Опубликовано: (1986)
Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides : for VLSI/ULSI applications
по: 439284 Schmitz, John E. J.
Опубликовано: (1992)
DIAMOND CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION FROM A CAPACITIVELY COUPLED RADIO-FREQUENCY PLASMA
по: Jackman, R, и др.
Опубликовано: (1995)