Neidio i'r cynnwys
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Iaith
Pob Maes
Teitl
Awdur
Pwnc
Rhif Galw
ISBN/ISSN
Tag
Canfod
Uwch
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON S...
Dyfynnu hwn
Anfonwch hwn fel neges destun
E-bostio hwn
Argraffu
Allforio Cofnod
Allforio i RefWorks
Allforio i EndNoteWeb
Allforio i EndNote
Permanent link
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON SILICON - INSITU SURFACE STUDIES
Manylion Llyfryddiaeth
Prif Awduron:
Foord, J
,
Jackman, R
Fformat:
Journal article
Cyhoeddwyd:
1984
Daliadau
Disgrifiad
Eitemau Tebyg
Dangos Staff
Eitemau Tebyg
Influence of the environment on the surface conductivity of chemical vapor deposition diamond
gan: Foord, J, et al.
Cyhoeddwyd: (2002)
METAL DEPOSITION ON SILICON: IN SITU SURFACE STUDIES.
gan: Jackman, R, et al.
Cyhoeddwyd: (1984)
INTERACTION OF HYDROGEN WITH CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION DIAMOND SURFACES - A THERMAL-DESORPTION STUDY
gan: Chua, L, et al.
Cyhoeddwyd: (1994)
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)
gan: Jackman, R, et al.
Cyhoeddwyd: (1986)
INSITU X-RAY PHOTOEMISSION-STUDIES OF THE OXIDATION OF Y-BA-CU FILMS
gan: Price, R, et al.
Cyhoeddwyd: (1988)