Անցեք բովանդակությանը
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Լեզու
Բոլոր դաշտերը
Վերնագիր
Հեղինակ
Խորագիր
Դասիչ
ISBN/ISSN
Ցուցիչ
Գտեք
Ընդլայնված
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON S...
Վկայակոչեք սա
Գրեք սա
Էլփոստով ուղարկեք սա
Տպել
Արտահանել գրառումը
Արտահանել դեպի RefWorks
Արտահանել դեպի EndNoteWeb
Արտահանել դեպի EndNote
Մշտական հղում
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON SILICON - INSITU SURFACE STUDIES
Մատենագիտական մանրամասներ
Հիմնական հեղինակներ:
Foord, J
,
Jackman, R
Ձևաչափ:
Journal article
Հրապարակվել է:
1984
Պահումներ
Նկարագրություն
Նմանատիպ նյութեր
Աշխատակազմի տեսք
Նմանատիպ նյութեր
METAL DEPOSITION ON SILICON: IN SITU SURFACE STUDIES.
: Jackman, R, և այլն
Հրապարակվել է: (1984)
INSITU X-RAY PHOTOEMISSION-STUDIES OF THE OXIDATION OF Y-BA-CU FILMS
: Price, R, և այլն
Հրապարակվել է: (1988)
Influence of the environment on the surface conductivity of chemical vapor deposition diamond
: Foord, J, և այլն
Հրապարակվել է: (2002)
INTERACTION OF HYDROGEN WITH CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION DIAMOND SURFACES - A THERMAL-DESORPTION STUDY
: Chua, L, և այլն
Հրապարակվել է: (1994)
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)
: Jackman, R, և այլն
Հրապարակվել է: (1986)