Siirry sisältöön
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Kieli
Kaikki kentät
Nimeke
Tekijä
Aihe
Hyllypaikka
ISBN/ISSN
Tagi
Hae
Tarkennettu
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON S...
Sitaatti
Tekstiviesti
Lähetä sähköpostilla
Tulosta
Vie tietue
Vienti: RefWorks
Vienti: EndNoteWeb
Vienti: EndNote
Pysyvä linkki
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON SILICON - INSITU SURFACE STUDIES
Bibliografiset tiedot
Päätekijät:
Foord, J
,
Jackman, R
Aineistotyyppi:
Journal article
Julkaistu:
1984
Saatavuustiedot
Kuvaus
Samankaltaisia teoksia
Henkilökuntanäyttö
Samankaltaisia teoksia
METAL DEPOSITION ON SILICON: IN SITU SURFACE STUDIES.
Tekijä: Jackman, R, et al.
Julkaistu: (1984)
Influence of the environment on the surface conductivity of chemical vapor deposition diamond
Tekijä: Foord, J, et al.
Julkaistu: (2002)
INSITU X-RAY PHOTOEMISSION-STUDIES OF THE OXIDATION OF Y-BA-CU FILMS
Tekijä: Price, R, et al.
Julkaistu: (1988)
INTERACTION OF HYDROGEN WITH CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION DIAMOND SURFACES - A THERMAL-DESORPTION STUDY
Tekijä: Chua, L, et al.
Julkaistu: (1994)
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)
Tekijä: Jackman, R, et al.
Julkaistu: (1986)