IN-SITU DEPOSITION OF HIGH-TC MATERIALS USING VACUUM-ARC ABLATION WITH MACROPARTICLE FILTER
Հիմնական հեղինակներ: | Sloggett, G, Mckenzie, D, Cockayne, D, Smith, G, Jenkins, B, Foley, C, Takano, Y, Studer, A, Haub, J, Orr, B |
---|---|
Ձևաչափ: | Conference item |
Հրապարակվել է: |
1994
|
Նմանատիպ նյութեր
-
CATHODIC ARC ABLATION AS A NEW METHOD OF HIGH-TC SUPERCONDUCTOR DEPOSITION
: Studer, A, և այլն
Հրապարակվել է: (1992) -
The source of macroparticle-free plasma flows for nanoelectronics
: Borisenko A. G.
Հրապարակվել է: (2013-06-01) -
MICROSCOPICALLY PROPERTIES OF PLASMA WITH CONDUCTIVE MACROPARTICLES
: F. Baimbetov, և այլն
Հրապարակվել է: (2010-12-01) -
Life of the dust macroparticles in storage rings
: S. Heifets, և այլն
Հրապարակվել է: (2005-06-01) -
Positively Charged Macroparticles in Low-Temperature Plasma
: Aleksander A. Bizyukov, և այլն
Հրապարակվել է: (2022-03-01)