Chuyển đến nội dung
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Ngôn ngữ
Tất cả các trường
Tiêu đề
Tác giả
Chủ đề
Số hiệu
số ISBN/ISSN
Nhãn
Tìm kiếm
Nâng cao
Transmission electron microsco...
Trích dẫn điều này
Văn bản này
Email này
In
Xuất bản ghi
Xuất tới RefWorks
Xuất tới EndNoteWeb
Xuất tới EndNote
Liên kết dài hạn
Transmission electron microscopy characterization of secondary defects created by MeV Si, Ge, and Sn implantation in silicon
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính:
Wong-Leung, J
,
Fatima, S
,
Jagadish, C
,
Gerald, F
,
Chou, C
,
Zou, J
,
Cockayne, D
Định dạng:
Journal article
Được phát hành:
2000
Đang giữ
Miêu tả
Những quyển sách tương tự
Chế độ xem nhân viên
Những quyển sách tương tự
{111} defects in 1-MeV-silicon-ion-implanted silicon.
Bằng: Chou, C, et al.
Được phát hành: (1995)
{111} and {311} rod-like defects in silicon ion implanted silicon
Bằng: Chou, C, et al.
Được phát hành: (1996)
Double-shot MeV electron diffraction and microscopy
Bằng: P. Musumeci, et al.
Được phát hành: (2017-07-01)
Path integrals from meV to MeV /
Bằng: Bielefeld Encounters in Physics and Mathematics (7th : 1985 : Bielefeld Center for Interdisciplinary Research), et al.
Được phát hành: (1986)
New experimental results for the 17 MeV particle created in 8Be
Bằng: Krasznahorkay A.J., et al.
Được phát hành: (2017-01-01)