Transmission electron microscopy characterization of secondary defects created by MeV Si, Ge, and Sn implantation in silicon

Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Wong-Leung, J, Fatima, S, Jagadish, C, Gerald, F, Chou, C, Zou, J, Cockayne, D
Định dạng: Journal article
Được phát hành: 2000