Přeskočit na obsah
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Jazyk
Vše
Název
Autor
Téma
Signatura
ISBN/ISSN
Tag
Hledat
Pokročilé
CHEMICAL BEAM EPITAXY AND RELA...
Vytvořit citaci
Zaslat SMS
Poslat e-mailem
Vytisknout
Exportovat záznam
Exportovat do RefWorks
Exportovat do EndNoteWeb
Exportovat do EndNote
Trvalý odkaz
CHEMICAL BEAM EPITAXY AND RELATED GROWTH TECHNIQUES 1991 - PROCEEDINGS OF THE 3RD INTERNATIONAL-CONFERENCE ON CHEMICAL BEAM EPITAXY AND RELATED GROWTH TECHNIQUES OXFORD, UK, 1-5 SEPTEMBER 1991 - PREFACE
Podrobná bibliografie
Hlavní autoři:
Davies, G
,
Foord, J
,
Tsang, W
Médium:
Journal article
Vydáno:
1992
Jednotky
Popis
Podobné jednotky
UNIMARC/MARC
Podobné jednotky
An investigation of ZnSe growth by chemical beam epitaxy using modulated beam scattering and related techniques
Autor: Foord, J, a další
Vydáno: (1996)
REACTION MODELS FOR THE EPITAXIAL-GROWTH OF III-V SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY
Autor: Foord, J, a další
Vydáno: (1993)
SOME COMPARISONS OF CHEMICAL BEAM EPITAXY WITH GAS SOURCE MOLECULAR-BEAM EPITAXY
Autor: Davies, G, a další
Vydáno: (1991)
SURFACE-REACTION MECHANISMS IN CHEMICAL BEAM EPITAXY
Autor: Foord, J, a další
Vydáno: (1991)
SELECTIVE AREA GROWTH OF III-V-COMPOUND SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY
Autor: Davies, G, a další
Vydáno: (1992)