تخطي إلى المحتوى
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
اللغة
كل الحقول
العنوان
المؤلف
الموضوع
رقم الاستدعاء
ردمك/تدمد
الوسم
ابحث
بحث متقدم
WORK FUNCTION AT A SILICON SUR...
استشهد بهذا
أرسل هذا في رسالة قصيرة
أرسل هذا بالبريد الإلكتروني
طباعة
تصدير التسجيلة
تصدير إلى RefWorks
تصدير إلى EndNoteWeb
تصدير إلى EndNote
رابط دائم
WORK FUNCTION AT A SILICON SURFACE ATOMICALLY RESOLVED BY STM
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:
Pethica, J
,
Knall, J
,
Wilson, J
التنسيق:
Conference item
منشور في:
1993
المقتنيات
الوصف
مواد مشابهة
عرض للأخصائي
مواد مشابهة
Quantitative STM imaging of metal surfaces
حسب: Clarke, A, وآخرون
منشور في: (1996)
ADSORPTION OF TRIMETHYLGALLIUM ON SEMICONDUCTOR SURFACES - STM OBSERVATIONS
حسب: Mayne, A, وآخرون
منشور في: (1993)
Superstructures and defect structures revealed by atomic-scale STM imaging of WO3(001).
حسب: Jones, F, وآخرون
منشور في: (1995)
An STM study of surface structures on WO3(001)
حسب: Jones, F, وآخرون
منشور في: (1996)
The surface structure of TiO2(210) studied by atomically resolved STM and atomistic simulation
حسب: Howard, A, وآخرون
منشور في: (2000)