Neidio i'r cynnwys
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Iaith
Pob Maes
Teitl
Awdur
Pwnc
Rhif Galw
ISBN/ISSN
Tag
Canfod
Uwch
Electrical and structural anal...
Dyfynnu hwn
Anfonwch hwn fel neges destun
E-bostio hwn
Argraffu
Allforio Cofnod
Allforio i RefWorks
Allforio i EndNoteWeb
Allforio i EndNote
Permanent link
Electrical and structural analysis of high-dose Si implantation in GaN
Manylion Llyfryddiaeth
Prif Awduron:
Zolper, J
,
Tan, H
,
Williams, J
,
Zou, J
,
Cockayne, D
,
Pearton, S
,
Crawford, M
,
Karlicek, R
Fformat:
Journal article
Cyhoeddwyd:
1997
Daliadau
Disgrifiad
Eitemau Tebyg
Dangos Staff
Eitemau Tebyg
TEM investigations of Si ion-implanted GaN
gan: Zou, J, et al.
Cyhoeddwyd: (1998)
Damage to epitaxial GaN layers by silicon implantation
gan: Tan, H, et al.
Cyhoeddwyd: (1996)
Ion implantation processing of GaN epitaxial layers
gan: Tan, H, et al.
Cyhoeddwyd: (1996)
Annealing of ion implanted gallium nitride
gan: Tan, H, et al.
Cyhoeddwyd: (1998)
AlGaN/GaN on SiC Devices without a GaN Buffer Layer: Electrical and Noise Characteristics
gan: Justinas Jorudas, et al.
Cyhoeddwyd: (2020-12-01)