Electrical and structural analysis of high-dose Si implantation in GaN
Hlavní autoři: | Zolper, J, Tan, H, Williams, J, Zou, J, Cockayne, D, Pearton, S, Crawford, M, Karlicek, R |
---|---|
Médium: | Journal article |
Vydáno: |
1997
|
Podobné jednotky
-
TEM investigations of Si ion-implanted GaN
Autor: Zou, J, a další
Vydáno: (1998) -
Damage to epitaxial GaN layers by silicon implantation
Autor: Tan, H, a další
Vydáno: (1996) -
Ion implantation processing of GaN epitaxial layers
Autor: Tan, H, a další
Vydáno: (1996) -
Annealing of ion implanted gallium nitride
Autor: Tan, H, a další
Vydáno: (1998) -
AlGaN/GaN on SiC Devices without a GaN Buffer Layer: Electrical and Noise Characteristics
Autor: Justinas Jorudas, a další
Vydáno: (2020-12-01)