Electrical and structural analysis of high-dose Si implantation in GaN
Asıl Yazarlar: | Zolper, J, Tan, H, Williams, J, Zou, J, Cockayne, D, Pearton, S, Crawford, M, Karlicek, R |
---|---|
Materyal Türü: | Journal article |
Baskı/Yayın Bilgisi: |
1997
|
Benzer Materyaller
-
TEM investigations of Si ion-implanted GaN
Yazar:: Zou, J, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1998) -
Damage to epitaxial GaN layers by silicon implantation
Yazar:: Tan, H, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1996) -
Ion implantation processing of GaN epitaxial layers
Yazar:: Tan, H, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1996) -
Annealing of ion implanted gallium nitride
Yazar:: Tan, H, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1998) -
AlGaN/GaN on SiC Devices without a GaN Buffer Layer: Electrical and Noise Characteristics
Yazar:: Justinas Jorudas, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (2020-12-01)