Electrical and structural analysis of high-dose Si implantation in GaN
Автори: | Zolper, J, Tan, H, Williams, J, Zou, J, Cockayne, D, Pearton, S, Crawford, M, Karlicek, R |
---|---|
Формат: | Journal article |
Опубліковано: |
1997
|
Схожі ресурси
Схожі ресурси
-
TEM investigations of Si ion-implanted GaN
за авторством: Zou, J, та інші
Опубліковано: (1998) -
Damage to epitaxial GaN layers by silicon implantation
за авторством: Tan, H, та інші
Опубліковано: (1996) -
Ion implantation processing of GaN epitaxial layers
за авторством: Tan, H, та інші
Опубліковано: (1996) -
Annealing of ion implanted gallium nitride
за авторством: Tan, H, та інші
Опубліковано: (1998) -
AlGaN/GaN on SiC Devices without a GaN Buffer Layer: Electrical and Noise Characteristics
за авторством: Justinas Jorudas, та інші
Опубліковано: (2020-12-01)