Electrical and structural analysis of high-dose Si implantation in GaN
Những tác giả chính: | Zolper, J, Tan, H, Williams, J, Zou, J, Cockayne, D, Pearton, S, Crawford, M, Karlicek, R |
---|---|
Định dạng: | Journal article |
Được phát hành: |
1997
|
Những quyển sách tương tự
-
TEM investigations of Si ion-implanted GaN
Bằng: Zou, J, et al.
Được phát hành: (1998) -
Damage to epitaxial GaN layers by silicon implantation
Bằng: Tan, H, et al.
Được phát hành: (1996) -
Ion implantation processing of GaN epitaxial layers
Bằng: Tan, H, et al.
Được phát hành: (1996) -
Annealing of ion implanted gallium nitride
Bằng: Tan, H, et al.
Được phát hành: (1998) -
AlGaN/GaN on SiC Devices without a GaN Buffer Layer: Electrical and Noise Characteristics
Bằng: Justinas Jorudas, et al.
Được phát hành: (2020-12-01)