Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching
<p>Optical diagnostic techniques have been developed and then used to investigate the chemistry of reactive species formed in CF<sub>4</sub> / O<sub>2</sub> rf parallel plate discharges, similar to those employed in semiconductor material processing.</p> <p>...
| Հիմնական հեղինակներ: | , |
|---|---|
| Այլ հեղինակներ: | |
| Ձևաչափ: | Թեզիս |
| Լեզու: | English |
| Հրապարակվել է: |
1991
|
| Խորագրեր: |