Toogood, M., Toogood, M. J., & Hancock, G. (1991). Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Toogood, M., M. J. Toogood, و G. Hancock. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الإصدار التاسع)Toogood, M., et al. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.