APA (7 ম সংস্করণ) উদ্ধৃতি

Toogood, M., Toogood, M. J., & Hancock, G. (1991). Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching.

শিকাগো স্টাইল (17 তম সংস্করণ) উদ্ধৃতি

Toogood, M., M. J. Toogood, এবং G. Hancock. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.

M.L.A (9 ম সংস্করণ) উদ্ধৃতি

Toogood, M., et al. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.