Toogood, M., Toogood, M. J., & Hancock, G. (1991). Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching.
Citace podle Chicago (17th ed.)Toogood, M., M. J. Toogood, a G. Hancock. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
Citace podle MLA (9th ed.)Toogood, M., et al. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
Upozornění: Tyto citace jsou generovány automaticky. Nemusí být zcela správně podle citačních pravidel..