Toogood, M., Toogood, M. J., & Hancock, G. (1991). Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching.
Chicago-viite (17. p.)Toogood, M., M. J. Toogood, ja G. Hancock. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
MLA-viite (9. p.)Toogood, M., et al. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
Varoitus: Nämä viitteet eivät aina ole täysin luotettavia.