Toogood, M., Toogood, M. J., & Hancock, G. (1991). Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching.
शिकागो शैली (17वां संस्करण) प्रशस्ति पत्रToogood, M., M. J. Toogood, और G. Hancock. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
एमएलए (9वां संस्करण) प्रशस्ति पत्रToogood, M., et al. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
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