APA-ийн эшлэл(7 дахь хэвлэлт)

Toogood, M., Toogood, M. J., & Hancock, G. (1991). Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching.

Чикаго-гийн эшлэл (17 дахь хэвлэлт)

Toogood, M., M. J. Toogood, ба G. Hancock. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.

MLA -ийн эшлэл (9 дэх хэвлэлт)

Toogood, M., et al. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.