Toogood, M., Toogood, M. J., & Hancock, G. (1991). Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching.
Cytowanie według stylu Chicago (wyd. 17)Toogood, M., M. J. Toogood, i G. Hancock. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
Cytowanie według stylu MLA (wyd. 9)Toogood, M., et al. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
Uwaga: Te cytaty mogą odróżniać się od wytycznej twojego fakultetu..