Toogood, M., Toogood, M. J., & Hancock, G. (1991). Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching.
Chicago-referens (17:e uppl.)Toogood, M., M. J. Toogood, och G. Hancock. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
MLA-referens (9:e uppl.)Toogood, M., et al. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
Varning: dessa hänvisningar är inte alltid fullständigt riktiga.