Toogood, M., Toogood, M. J., & Hancock, G. (1991). Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Toogood, M., M. J. Toogood, та G. Hancock. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
Стиль цитування MLA (9-ме видання)Toogood, M., et al. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.