Toogood, M., Toogood, M. J., & Hancock, G. (1991). Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching.
Trích dẫn kiểu Chicago (xuất bản lần thứ 7)Toogood, M., M. J. Toogood, và G. Hancock. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
Trích dẫn kiểu MLA (xuất bản lần thứ 9)Toogood, M., et al. Studies of the Chemistry of Plasmas Used for Semiconductor Etching. 1991.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.