Borucki, L., Witelski, T., Please, C., Kramer, P., & Schwendeman, D. (2004). A theory of pad conditioning for chemical-mechanical polishing.
Chicago-viite (17. p.)Borucki, L., T. Witelski, C. Please, P. Kramer, ja D. Schwendeman. A Theory of Pad Conditioning for Chemical-mechanical Polishing. 2004.
MLA-viite (9. p.)Borucki, L., et al. A Theory of Pad Conditioning for Chemical-mechanical Polishing. 2004.
Varoitus: Nämä viitteet eivät aina ole täysin luotettavia.