Siirry sisältöön
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Kieli
Kaikki kentät
Nimeke
Tekijä
Aihe
Hyllypaikka
ISBN/ISSN
Tagi
Hae
Tarkennettu
ADSORPTION, ETCHING AND PHOTOI...
Sitaatti
Tekstiviesti
Lähetä sähköpostilla
Tulosta
Vie tietue
Vienti: RefWorks
Vienti: EndNoteWeb
Vienti: EndNote
Pysyvä linkki
ADSORPTION, ETCHING AND PHOTOINDUCED REACTIONS AT THE SI(100)-CCL4 INTERFACE
Näytä muut versiot (1)
Bibliografiset tiedot
Päätekijät:
French, C
,
Jackman, R
,
Price, R
,
Foord, J
Aineistotyyppi:
Journal article
Julkaistu:
1989
Saatavuustiedot
Kuvaus
Muut versiot (1)
Samankaltaisia teoksia
Henkilökuntanäyttö
Samankaltaisia teoksia
Adsorption, etching and photo-induced reactions at the Si(100)-CCl 4 interface
Tekijä: French, C, et al.
Julkaistu: (1989)
REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)
Tekijä: Jackman, R, et al.
Julkaistu: (1986)
CHEMICAL PRECURSORS FOR GAAS ETCHING WITH LOW-ENERGY ION-BEAMS - CHLORINE ADSORPTION ON GAAS(100)
Tekijä: Jackman, R, et al.
Julkaistu: (1991)
Surface studies of the interaction of Cl2 with InP(100)(4 × 2); an investigation of adsorption, thermal etching and ion beam assisted processes
Tekijä: Murrell, A, et al.
Julkaistu: (1990)
SURFACE STUDIES OF THE INTERACTION OF CL-2 WITH INP(100)(4X2) - AN INVESTIGATION OF ADSORPTION, THERMAL ETCHING AND ION-BEAM ASSISTED PROCESSES
Tekijä: Murrell, A, et al.
Julkaistu: (1990)