Skip to content
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
שפה
כל השדות
כותר
מחבר
נושא
סימן המיקום
ISBN/ISSN
תג
מצא
מתקדם
ADSORPTION, ETCHING AND PHOTOI...
יצירת מראה מקום
שליחה במסרון
שלח את זה
הדפסה
יצוא רשומה
יצוא אל RefWorks
יצוא אל EndNoteWeb
יצוא אל EndNote
Permanent link
ADSORPTION, ETCHING AND PHOTOINDUCED REACTIONS AT THE SI(100)-CCL4 INTERFACE
Show other versions (1)
מידע ביבליוגרפי
Main Authors:
French, C
,
Jackman, R
,
Price, R
,
Foord, J
פורמט:
Journal article
יצא לאור:
1989
מלאי ספרים
תיאור
Other Versions (1)
פריטים דומים
תצוגת צוות
פריטים דומים
Adsorption, etching and photo-induced reactions at the Si(100)-CCl 4 interface
מאת: French, C, et al.
יצא לאור: (1989)
REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1986)
CHEMICAL PRECURSORS FOR GAAS ETCHING WITH LOW-ENERGY ION-BEAMS - CHLORINE ADSORPTION ON GAAS(100)
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1991)
Surface studies of the interaction of Cl2 with InP(100)(4 × 2); an investigation of adsorption, thermal etching and ion beam assisted processes
מאת: Murrell, A, et al.
יצא לאור: (1990)
SURFACE STUDIES OF THE INTERACTION OF CL-2 WITH INP(100)(4X2) - AN INVESTIGATION OF ADSORPTION, THERMAL ETCHING AND ION-BEAM ASSISTED PROCESSES
מאת: Murrell, A, et al.
יצא לאור: (1990)